Case 1.
일본 최고재판소: 화학발명의 균등침해 판단
最高裁平成29年3月24日 平成28年(受)第1242号 特許権侵害行為差止請求事件 第二小法廷判決

특허청구범위는 출원서를 통해서 문언으로 확정할 수 있는 범위와 대상 제품의 제조시에 차이부분의 치환 등으로 용이하게 도달한 범위, 그리고 출원시에 차이부분의 치환 등에 대하여 용이하게 도달할 수 있는 범위를 포함한다. 여기서 본질적 부분과 차이부분이 무엇인가라는 점이 논의되고 있다. 이 사건에서 항소인은 “화학 분야의 발명은 특허 청구 범위가 객관적이고 명료한 표현으로 규정되어 있으며, 제3자에게는 그 범위 이외의 권리가 확장되는 것은 아니라는 믿음이 생기기 때문 당해 신뢰는 보호되어야한다 "고 주장하였으나, 법원은 이를 인정하지 않았다. 문언 상 또는 화학식상에서 포함하지 않는 것이 분명하지만, 이 사건은 의식적으로 제외한 것은 아니라고 판단하였다.

이 사건은 특허청구범위의 기술적 범위를 확정함에 있어 공지문헌에 대한 특허발명의 본질적 부분 파악이 중요해지고 있다는 점을 의미한다, 다시 말해 종래 기술에 대한 발명의 본질적 부분과 그렇지 않은 부분의 분리판단이 중요해지고, 출원시 기술상식이나, 치환 용이성을 파악하는 점도 중요해지고 있음을 시사한다고 할 수 있다.

원심: 知財高裁大合議 平成28年3月25日判決 平成27年(ネ)第10014号)
키워드: 균등론, 화학발명, 본질적 부분, 의식적 제외, 치환가능성

상고인 X가 각화증 치료제인 막사칼시톨(Maxacalcitol)의 원료 의약품을 수입·판매하고, 상고인 Y 등이 상기 원료 의약품을 함유하는 막사칼시톨 제제를 판매하고 있었다. 이에 특허권자인 A(피상고인)가 X 및 Y 등(이하, X 등)을 지방법원에 제소했다. X 등의 제조 방법이 특허청구 범위의 청구항 13에 관한 발명(이하, ‘이 사건 발명’이라 함)과 동등하다는 이유로 소를 제기하였다. 또한 A(피상고인)는 이 사건 소송 제기 후, 이 사건 특허에 대한 특허무효심판에서 2013년 9월 25일자 정정청구에 따라 특허청구범위의 청구항 13을 정정하였다. 지방법원은 균등이 성립하는 것을 이유로 전부 용인하였다. 이후 X 등은 지적재산고등법원에 항소하였고, 지적재산고등법원은 X 등의 소송을 기각하자 이에 불복하여 일본 최고재판소에 상고하였다.

가. 개관
이 사건 발명의 개략적으로 설명하면 다음과 같다.
A : A-1에 기재된 화합물의 제조 방법으로서,
B : B-1을 염기의 존재 하에서 B-2와 반응시켜 B-3 에폭 사이드를 제조하고,
C : B-3 에폭 사이드를 환원제로 처리하여 화합물을 제조하는 것
D : 화합물을 회수하는 것
E : 을 포함하는 방법.

이에 대하여, 항소인의 방법은 다음과 같다.
A : A-1에 기재된 화합물의 제조 방법으로서,
B : B-1'을 염기의 존재 하에서 B-2와 반응시켜 B-3 에폭 사이드 '(중간체)를 생산하는 것,
C : B-3 에폭시를 환원제로 처리하여 D물질을 제조하고 D물질을 시스체(シス体)로 전환하고, 보호기를 제외하여 화합물을 얻는 것
D : 화합물을 회수하는 것
E : 을 포함하는 방법.

지적재산고등법원에서는 다음과 같이 판시하였다.
(a) 공통점 : 항소인 방법은 정정 발명의 구성 요건 A, B-2, D 및 E를 충족한다. (b) 차이점 : b1: 출발 물질의 차이. Z의 비타민 D구조가 시스 체인지, 트랜스 체인지의 차이. 항소인 방법은 트랜스체이다. b2 : 중간체의 탄소 골격이 유사하게, 시스 체의 비타민 D구조가 아닌 트랜스 체의 비타민 D구조인 점에서 정정 발명의 구성 요건 B-3 및 C를 충족하지 않는다. 이와 같이 판시한 후에 지적재산고등법원은 균등의 5가지 요구사항을 충족하는 것으로 판단하였다. 이하에서는 제1요건과 제5요건의 판단부분만 기술한다.

나. 발명의 본질적 부분 인정
일본 지적재산고등법원은 “특허법이 보호하고자하는 발명의 실질적 가치는 기존 기술로는 달성 할 수 없었던 기술적 과제의 해결을 실현하기 위한 종래 기술에 볼 수 없는 특유의 기술적 사상에 따른 해결 수단을 구체적인 구성을 가지고 사회에 공개 한 점에 있다”는 점을 먼저 제시하였다. “특허 청구 범위에 기재된 각 구성 요건을 본질적 부분과 비본질적인 부분으로 나눈 다음, 본질적 부분에 해당 구성 요건에 대해서는 일절 균등을 인정하지 않는다고 해석하는 것이 아니라, 위와 같이 확정된 특허 발명의 본질적 부분을 대상 제품 등이 공통적으로 갖추고 있는지를 판단하고, 이를 갖추고 있다고 인정되는 경우에는 차이 부분은 본질적 부분이 아니라고 판단하여야하며 대상 제품 등에 종래 기술에 볼 수 없는 특유의 기술적 사상을 구성하는 특징적인 부분 이외의 상이한 부분이 있다 하더라도 그것은 제1 요건의 충족을 부정하는 이유는 안 된다“라고 언급하고 있다.

그리고 법원은 종래 기술과 이 발명을 상세하게 비교 한 후 “정정 명세서에는 정정 발명의 효과에 대해 특별히 언급되어 있지 않지만(특허법 36조 4항, 특허법 시행 규칙 24조의 2참조), 상기 한 바와 같이, 정정 발명의 과제는 종래 기술에 공개되지 않았다가 막사칼시톨의 측쇄를 갖는 비타민 D유도체 또는 스테로이드 유도체의 신규한 제조 방법을 제공하는 것 자체에 있기 때문에, 정정 발명의 효과는 종래 기술에 공개되지 않았던 새로운 방법으로 막사칼시톨의 측쇄를 갖는 막사칼시톨 등의 비타민 D유도체 또는 스테로이드 유도체를 제조하는 것으로 인정된다”고 판시하였다. 이와 함께 법원 이 발명에 대해 “정정 발명은 종래 기술에는 없는 새로운 제조 루트에 따라 그 대상으로 하는 목적 물질을 제조하는 것을 가능하게 하는 것이며, 종래 기술에 대한 공헌의 정도가 크다”고 높이 평가하고 있다.

발명의 본질적 부분에 대해 “정정 발명의 상기 과제와 해결 수단과 그 효과에 비추어 보면 정정 발명의 본질적 부분 (특허청구범위의 기재 중 종래 기술에 볼 수 없는 특유의 기술적 사상 구성 특징적인 부분)은 비타민 D 구조 또는 스테로이드 고리 구조의 20위 알코올 화합물을 말단에 탈離基을 갖는 구성 요건 B-2의 에폭시 탄화수소 화합물과 반응시켜 한 공정에서 에테르 결합하여 에폭시 갖는 측쇄를 도입 할 수 있다는 것을 발견하였다. 이와 같은 한 공정에서 에테르 결합하여 에폭시를 갖는 측쇄가 도입된 비타민 D 구조 또는 스테로이드 고리 구조라는 중간체를 통해 한 다음이 측쇄에 에폭시기를 개환하는 새로운 경로에 의해 비타민 D 구조 또는 스테로이드 고리 구조의 20위 알코올 화합물 막사칼시톨의 측쇄를 도입하는 것을 가능하게 한 점에 있다고 인정된다”고 인정하였다.

다. 의식적 제외에 대하여
항소인들은 “화학 분야의 발명은 특허청구 범위가 객관적이고 명료한 표현으로 규정되어 있으며, 제3자에게는 그 범위 이외의 권리가 확장되는 것은 아니라는 믿음이 생기기 때문에 당해 신뢰는 보호되어야한다”고 주장했지만, 법원은 이에 대해 이유가 없다고 결론지었다. 또한 피상고인(특허권자)은 이 사건 특허의 출원시에 이 사건 특허청구범위 및 명세서에서 목적 화합물을 제조하기 위한 출발 물질로 시스체의 비타민 D 구조의 것을 기재하고 있다. 하지만 그 기하 이성질체인 트랜스 체의 비타민 D 구조의 것을 기재하지 않았다. 이러한 상황에서 상고인은 “피상고인에 있어서 이 사건 특허의 출원시에 이 사건 특허청구범위에 기재된 구성 중 상고인들의 제조방법과 다른 위 부분에 대해 상고인들의 제조방법에 관한 구성을 쉽게 할 수 있었다”고 주장하고 이에 대해 의식적으로 제외에 해당한다고 주장하였다. 이 주장에 대해 지적재산고등법원은 다음과 같이 판시하였다. 출원인이 특허 출원시 특허청구의 범위 외의 다른 구성을 쉽게 할 수 있었음에도 불구하고, 이를 특허청구범위에 기재하지 않은 경우라도, 그것만으로는 특단의 사정이 존재하는 것은 아니다. 한편 출원인이 특허 출원시 특허청구의 범위 외의 다른 구성을 특허청구범위에 기재된 구성 중 다른 부분으로 대체 할 것으로 인식하고 있었던 것으로 객관적, 외형적으로 볼 때 인정되는 경우에는 특별한 사정이 존재할 때라고 판시하였다.

상고인은 특별한 사정에 대한 지적재산고등법원의 판시 내용에 불복하여 상고하였다. 이에 대해 최고재판소는 대체로 지적재산고등법원과 같은 내용을 판시하였다. 출원인이 특허출원시 특허청구범위에 기재된 구성 중 대상 제품 등과 다른 부분에 대해 대상 제품 등에 관한 구성을 쉽게 할 수 있음에도 불구하고, 이를 특허청구범위에 기재하지 않았다고 하는 것만으로는 특허 출원 된 명세서의 개시를 받을 제3자에게 어떠한 대상 제품 등이 특허청구범위에서 제외된 것에 대한 신뢰를 주는 것은 아니며, 출원인에 있어서 대상 제품 등이 특허 발명의 기술적 범위에 속하지 않는다는 사실을 인정했다고 해석하는 것과 같은 행동을 취한 것이라고 보기는 어렵다.

출원인이 특허 출원시 특허청구범위에 기재된 구성 중 대상 제품 등과 다른 부분에 대해 대상 제품 등에 관한 구성을 쉽게 할 수 있었음에도, 이를 특허청구의범위에 기재하지 않은 경우라도, 그것만으로는 대상 제품 등이 특허 발명의 특허 출원 절차에서 특허청구범위에서 의식적으로 제외된 것에 해당하는 등의 특별한 사정이 존재한다고는 할 수 없다고 하였다. 출원인이 특허 출원시 특허 청구 범위에 기재된 구성 중 대상 제품 등과 다른 부분에 대해 대상 제품 등에 관한 구성을 쉽게 할 수 있었음에도 불구하고, 이를 특허청구의범위에 기재하지 않은 경우 객관적, 외형적으로 볼 때 대상 제품 등에 관한 구성이 특허청구범위에 기재된 구성을 대체한다고 인식하면서 굳이 특허청구범위에 기재가 없었던 취지를 표시하고 있었다고 할 경우에, 대상 제품 등이 특허 발명의 특허출원절차에서 특허청구범위에 의식적으로 제외된 것에 해당하는 등의 특별한 사정의 존재를 인정할 수 있다고 하였다.

Case 2.
일본 지적재산고등재판소: 수치한정발명에서 수치의 단위를 변경하여 판단하면 당업자의 창작용이성이 인정되어 진보성이 없다고 본 사례
知財高裁平成30年(行ケ)第10096号(平成30年5月15日判決)

이 사건은 발명의 동기가 발명의 명세서에 기재되어 있지 않더라도 출원시 기술 상식을 고려하여 동기가 있다고 판단되는 경우가 있다고 본 점, 실시 예에서 오기가 추측되는 기재가 있다고 하더라도, 그 기재로 인하여 해당 실시 예의 기재가 즉각적으로 없는 것으로 보는 것은 아니라는 점에 의의가 있다고 할 수 있다. 즉 명세서에 오기가 있을 경우 그 기재대로 판단될 가능성이 있고, 단위를 기재하는 발명에 있어서 단위가 바뀌면 수치가 변경될 가능성이 있으므로 주의가 필요하다.

키워드: 정정, 발명의 동기, 저해요인, 신규성, 진보성, 신규사항 추가

이 사건 발명의 명칭은 “비자성 물질 입자분산형 강자성 소재 스포터링 타겟”이다. 이 사건 발명의 특허권자는 다나카 귀금속공업(주)이며, 피고는 JX금속(주)이다. 이 사건에서 원고는 피고의 위의 특허발명(특허번호: 제4975647호)에 대하여 무효심판을 청구하였으나, 일본 특허청은 이 발명의 신규성, 진보성, 서포트 요건을 모두 긍정하여 원고의 특허무효심판청구를 기각하였다. 이에 원고가 일본지적재산고등법원에 심결취소소송을 구한 사건이다.

1. 피고 발명의 정정 전후 비교

가. 정정후 피고의 특허의 청구항 1 이 특허는 정정된 바 있다. 정정후 이 특허의 청구항 1은 다음과 같다. Co 또는 Fe 또는 이 둘을 주성분으로 하는 재료의 강자성 재료에 산화물, 질화물, 탄화물, 규화물에서 선택된 1성분 이상 재료로 이루어지는 자성 재료의 입자가 분산된 재료로 소결체 스퍼터링 타겟으로서, 상기 자성 재료는 6 mol% 이상 함유된 상기 재료의 연마면에서 관찰되는 조직의 자성 재료의 모든 입자는 자성 재료 입자내의 임의의 점을 중심으로 형성된 반경 2μm의 모든 가상 원형보다 작거나 또는 상기 가상 원형과 강자성 재료와 자성 재료의 계면 사이에 적어도 2개 이상의 접점 또는 교점을 갖는 형상 및 치수의 입자에서 되고, 연마면에서 관찰되는 자성 재료의 입자가 존재하지 않는 영역의 최대 지름이 40μm 이하이며, 직경 10μm 이상 40μm 이하의 자성 재료의 입자가 존재하지 않는 영역의 개수가 1000개 / mm2 이하인 것을 특징으로 하는 소결체로 이루어진 자성재료 입자 분산형 강자성 재료 스퍼터링 타켓이 발명이 이루고자 하는 기술적 과제를 살펴보면 이하와 같다.



[0007] 이 발명은 스퍼터링에 의해 막을 형성 할 때 DC 스퍼터링에 의한 고속 성막이 가능하며, 또한 스퍼터링시 발생하는 발진(particle)과 결절(nodule)dmf 감소시키고 품질의 편차가 적고 양산성을 향상시킬 수 잇고, 또 결정립이 미세이며 고밀도의 자성 재료 입자 분산 강자성 재료 스퍼터링 타겟, 특히 자기 기록 층으로 사용하기에 적합한 스퍼터링 타겟을 얻는 것을 목적으로 한다.
[0022] (실시 예 1) 소결 원료 분말로서 입자 크기가 각각 5μm 이하의 Co미분, Cr미분, Pt미분의 자성 재료를 사용하고, 이에 대해 평균 입경 1μm의 SiO2 분말을 사용 하였다. 이것을 94 (74Co-10Cr-16Pt) -6SiO2 (mol%)가 되도록 저울로 달고, 이들을 습식 볼밀로 100시간 혼합하였다. 그런 다음, 이 혼합 분말을 카본제의 형태로 작성, 핫프레스법에 의해 1200 ° C에서 1시간 소결 94(74Co-10Cr-16Pt)-6 SiO2로 이루어진 강자성체 재료의 대상을 얻었다.
[0025] (실시 예 2) …97 (74Co-10Cr-16Pt) -3 Ta2O5 (mol %)로 이루어진 강자성체 재료의 대상을 얻었다.
[0027] (실시 예 3)…94 (74Co-10Cr-16Pt) -8 Cr2O3 (mol %)로 이루어진 강자성체 재료의 대상을 얻었다.
[0029] (비교 예 1)…이것을 94 (74Co-10Cr-16Pt) -6SiO2 (mol %)가되도록 무게…
[0031] (비교 예 2)…이것을 94 (74Co-10Cr-16Pt) -6 SiO2 (mol %)가되도록 무게…

나. 갑1 발명(特開平10-88333号公報)에 기재된 발명 [청구항 1] 보자력이 높고 매체 노이즈가 적은 고밀도 면내 자기 기록 매체 용 스퍼터링 타겟으로서, 그 조직이 합금 상과 세라믹 상과 미세 균일 분산 혼합 단계로 이루어진 것을 특징으로하는 스퍼터링 타겟.
[0009] 발명이 이루고자하는 기술적 과제: 이 발명의 목적은 보자력이 뛰어나 매체 노이즈가 적은 Co계 합금 자성 막을 스퍼터링 법에 의해 형성하는 결정 조직이 합금 상과 도자기 상이 균일하게 분산된 미세 혼합 상이다 스퍼터링 타겟 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
[0015] 자성 재료의 함유량에 관한 기재: (실시 예) 1 … 아토 마이즈 분말 (150μm 이하) 산화물로서 3 중량 %의 SiO2 분말을 혼합한 … (* 모든 실시 예 1-8에서 3중량 %의 기재 만)

다. 정정 전후의 청구항 1의 차이점 이 사건 정정 발명 1에서는 자성 재료의 함유량이 ‘6mol % 이상’ 인 반면, 갑1 발명에서는 SiO2 입자(자성 재료)의 함유량이 3중량 %(3.2mol %)인 점.

2. 당사자의 주장

원고는 이 사건 특허의 우선일 당시, 6mol %를 넘는 산화물을 함유하는 스퍼터링 타겟은 기술 상식 상업적 생산이 되어 있었고, 따라서 갑1 발명에 기해 산화물의 함량을 6mol % 이상 증가시키는 것에 대해 동기가 있다고 주장하였다. 또한 구성상 곤란성에 대해서는 갑 1의 SiO2 량을 mol%로 환산하면 1.46 ~ 3.34mol %가 된다(실시 예 1; 3.2mol %, 실시 예 4; 1.46mol %, 실시 예 5; 1.85mol %, 실시 예 6; 3.19mol % 실시 예 7; 3.34mol %). 실시 예 4, 실시 예 7, 두 배 이상의 값까지 증가 시켜도 거의 동일한 미세 균일 한 상을 실현할 수 있다. SiO2, Cr2O3, Ta2O3을 분산시킬 때 3mol %의 자성 재료를 균일 미세하게 분산시키는 것과 6mol %의 자성 재료를 균일 미세하게 분산시키는 것에 대한 곤란성의 차이는 존재하지 않는다.

이와 함께, 신규사항 추가에 대하여 원고는 다음과 같이 주장한다. 실시 예 3에 ‘94 (74Co-10Cr-16Pt)-8Cr2O3(mol %)로 이루어진 강자성체 재료의 대상(해당 대상의 ‘자성 재료인 Cr2O3 입자’의 함량은 7.84mol % (= 8 / (94 + 8))로 산출된다)’이 기재되어 있다고 인정했다. 그러나 합금의 각 성분의 함량을 나타내는 때 몰 퍼센트는 총 100이 되어야 할 것이므로, 강자성 재료와 자성 재료의 총 몰수가 100을 초과하는 실시 예 3의 함유량에 대한 기재는 분명히 잘못되었다. 그 기재로부터 자성 재료의 함유량이 제대로 6mol %인데 8mol %로 했을 오기 또는 강자성 재료의 함유량이 제대로 92mol %인데 94mol %로 오기하거나 다른 숫자에 오류가 있는지 불분명하다. 실시 예 3에 기재 되어있는 발명의 내용이 불명확하고 실시 예로서 의미가 없으므로, 이 실시 예 3의 기재가 없는 것으로 보고, 각 청구항 기재 발명과 이 사건 발명의 명세서의 기재를 이해하여야 한다.

이에 대하여 피고는 갑 1 발명은 산화물과 질화물의 함량을 3 중량 %로 하는 전제 하에서 산화물 등(자성 재료)을 미세한 흑점의 형태로 분산시킨 또는 합금 분말의 입자 동그라미에 산화물을 응집시킨 조직이다. 따라서 자성 재료의 함량이 3 중량 %라는 전제 하에서 갑 1 발명의 조직 및 이 사건 정정 발명 1의 조직과는 모양 1 점에서 우연히 일치 할 가능성이 있을지도 모르지만 갑 1 발명은 형상 2를 갖는 것은 아니다. 이 사건 정정 발명 1 ‘모양 1 또는 형상 2’로 특정되는 반면, 갑 1 발명 '모양 1’로 특정되는 점에서 차이가 있다. 발명의 동기에 대해서는 갑 1에 개시되어있는 스퍼터링 타겟의 자성 재료 함량이 3 중량 %로 고정되어있다.

당업자는 모든 실시 예에서 고정된 함량을 일부러 수정하여 증가 시키려고 생각하지 않는다. 저해요인으로는 만일 당업자가 갑 1 발명 실시 예로 공개되는 대상에 대하여 그 구성의 변경을 시도하고 있다고 하더라도 대상의 조성을 변화 시키면 대상 중 세라믹상의 분산 상태도 변화한다고 추측된다. 세라믹 상을 증가 시키려고 하면 균일하게 분산시키는 것이 상대적으로 어렵고 ··· 분산의 균일성이 저하되는 방향으로 변화한다고 생각하는 것이 자연이다. 자성 재료의 함유량을 6mol % 이상으로 할 수는 저해 요인이 있다. 한편 신규사항 추가에 대해서는 실시 예 3에 Cr2O3 입자의 함유량이 7.84mol % (= 8 / (94 + 8))이며, 자성 재료의 입자의 분산이 조정 된 대상의 개시가 있음을 감안하면, 이 사건 명세서 책에 대상이 자성 재료를 6mol % 이상 함유하는 취지가 기재되어있는 것은 분명하다. 원고는 실시 예 3의 자성 재료의 함유량이 오기하다고 주장하지만, 억측에 불과하다.

3. 법원의 판단

이 사건 특허의 우선 일 당시 수직자기 기록 매체에서 자성 재료인 SiO2를 11mol % 또는 15 ~ 40vol % 함유하는 자성 막은 입자의 고립화가 촉진되어 자기 특성과 노이즈 특성이 우수하다는 것으로 알려져 있으며, 자성 재료를 6mol % 이상 함유하는 스퍼터링 타겟은 기술 상식이었다고 판단하였다. 또한 발명의 동기에 대해서 법원은 “이 사건 특허의 우선 일 전에 공개되어 있던 갑 4(특개 2004-339586 호 공보)에서 종래 기술로 갑 2 인용 갑 2에 개시되어있는 기존의 대상은 “충분히 실리카(silica) 상이 Co기소결 합금 상 중에 충분히 분산되지 않기 때문에… 스퍼터 초기에 안정된 방전을 얻을 수 없다는 문제점이 있었다...”라고 기재되어 있는 것에서도 뛰어난 스퍼터링 타겟을 얻기 위해 물질 및 그 함유 비율 혼합 조건, 소결 조건 등에 관하여 매일 검토가 가해지고 있는 상황에 있었다고 인정된다. 그렇다면, 갑 1 발명에 따른 스퍼터링 타겟에서도 산화물의 함량을 증가시키는 동기가 있었다”고 보인다.

저해 요인에 대하여 법원은 다음과 같이 판시하고 있다. 피고도 자성 재료의 함유량을 ‘6mol % 이상’이라고 특정하여 어떠한 작용 효과를 노린 것이 아니라고 주장하고 있다. 증거에 비추어도, 6mol %의 경계 값에 기술적 의의가 있는 것인지 알 수 없다. 갑 1은 실시 예 4(산화물의 함량은 1.46mol %)에 대해 이 대상의 조직은 그림에 나타낸 산화물 (SiO2)가 분산된 미세 혼합 상과 거의 유사 하였다. 실시 예 5(이 1.85mol %) 및 동 6(동 3.19mol %)에 대해서도 이 대상의 조직은 그림 1에 나타낸 조직과 거의 마찬가라고 하는 각 기재와 같이 자성 재료인 산화물의 함유량이 1.46mol %(실시 예 4)에서 3.19mol %(실시 예 6)까지 2배 이상 변화해도 대상의 단면 조직 사진이 갑 1의 그림과 같은 것이 될 수 나타나고 있다.

또한 메터니컬 아로잉(Mechanical Alloying)의 혼합 조건의 조정 예를 들어, 충분한 혼합 시간의 확보 등을 통해 나노 스케일의 미세한 분산 상태를 얻을 수 있는 것이 이 사건 특허의 우선 일 당시의 기술 상식이었다. 갑 1에 접한 당업자는 갑 1 발명에 있어서 산화물의 함량을 증가시킨 경우, 응집 등에 의해 입자의 비대화 등이 생기는 경향이 강해지기는 해도, 금속재료(강자성 재료) 및 산화물(자성 재료)의 입자 크기, 성상, 함량 등에 따라 혼합 조건 등을 조정하여 갑 1 발명과 동일한 정도의 미세한 분산 상태를 얻을 수 있는 것을 이해할 수 있다고 보았다.

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