한국지식재산연구원(원장 안대진)에서는 한국 특허청(KIPO)과 일본 특허청(JPO)이 출원인, 대리인을 대상으로 매년 실시하는 심사품질 만족도 조사 결과를 바탕으로 ‘특허심사품질 만족도 조사 한․일간 비교분석’ 보고서를 발간하였다.

동 보고서에 따르면, 한일 양국 특허청의 특허심사품질 전반에 대한 이용자 만족도는 대체로 높은 것으로 나타났다(국내 출원 기준, KIPO : 67.3점/100점, JPO : 57%/100%). 세부적으로는 양국 모두 심사관과의 의사소통에 대해 만족도가 높은 것으로 나타났으며(KIPO : 78점/100점, JPO : 57%/100점), 신규성․진보성 등 특허요건의 판단에 대해서는 만족도가 낮은 것으로 조사되었다.(KIPO : 57.8점/100점, JPO : 38.6%/100%).

특허심사품질(국내 출원)에 영향을 미치는 중점항목과 개선항목을 도출한 결과에 따르면, 한일 양국 공통적으로 ‘신규성·진보성 등 특허요건에 대한 판단’과 ‘거절결정에 대한 상세한 설명’, ‘심사관 간의 판단 차이의 최소화’가 중점·개선항목으로 나타났다. 즉, 중점․개선항목 또한 불만족 항목과 유사하게 심사관의 신규성․진보성 등 특허요건에 대한 정확한 판단이 도출됨에 따라 이를 향후 심사품질정책에 적극적으로 반영할 필요가 있는 것으로 분석되었다.

심현주 한국지식재산연구원 선임연구원은 동 보고서를 통해 "양국의 조사결과에 따르면, 진보성 판단은 특허제도 이용자가 중요하게 생각하는 항목이지만, 이에 대한 이용자 만족도가 상대적으로 낮게 나타났다"며, 따라서 "진보성 판단의 정확도를 높이고, 진보성에 대한 심사관 판단의 차이를 줄일 수 있는 심사품질 향상 정책이 요구되며, 진보성 판단에 대한 심사관과 출원인․대리인의 견해 차이를 줄일 수 있는 의사소통 창구의 확대가 요구된다"고 언급하였다. 또한 "현재 한국 특허청이 현재 실시하고 있는 이용자 만족도 조사결과의 신뢰도를 높이기 위해 만족도 조사대상의 확대와 조사항목의 세분화 등이 필요하다"고 덧붙였다.

※ 한국지식재산연구원 홈페이지(www.kiip.re.kr)를 통해 PDF 파일을 무료로 다운받을 수 있음